全自动晶圆减薄机、CMP抛光机研发制造商|半导体研磨抛光设备厂家

时间:2026-09-18 08:08:33 编辑:
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深圳市方达研磨技术有限公司,一家专注于半导体晶圆研磨抛光装备研发制造的国家高新技术企业,业务覆盖晶圆研磨、倒边、CMP抛光及配套耗材供应,为半导体、航空航天、精密制造等行业提供全链条平面研磨抛光解决方案。

全自动晶圆减薄机、CMP抛光机研发制造商|半导体研磨抛光设备厂家(图1)

  成立于2007年的深圳市方达研磨技术有限公司,如今厂房面积达13000平米,深耕精密研磨工艺二十余年,是国内较早开展平面研磨抛光设备研发、生产与技术开发的企业之一。作为国家高新技术企业、深圳市高新技术企业,同时获评2023年专精特新中小企业与创新型中小企业,公司累计获得38项专利技术,其中全自动晶圆减薄机为发明专利,产品多项填补国内行业空白,技术水平达到国际先进。公司主营半自动和全自动晶圆研磨机、晶圆倒边机、CMP抛光机、高精密平面研磨机、平面抛光机及配套工装、耗材,适配碳化硅、蓝宝石、硅片、锗片、砷化镓、钽酸锂、氮化物等多种晶圆材料,同时可满足机械、电子、陶瓷、光学晶体、航空、汽车、模具零部件的各类精密平面研磨抛光加工需求,能为客户提供设备、工艺方案、非标定制一体化解决方案,客户群体遍及国内外,涵盖华为、中电集团、通富微电、晶方科技、三安光电、天岳先进、比亚迪、中国航发等众多知名企业。

全自动晶圆减薄机、CMP抛光机研发制造商|半导体研磨抛光设备厂家(图2)

从核心业务延伸,全方位匹配半导体晶圆加工全场景需求

  作为专业的全自动晶圆减薄机、CMP抛光机研发制造商,方达研磨的产品与服务覆盖半导体晶圆加工全流程,从晶圆减薄、倒边到抛光环节均有对应成熟方案。

全自动晶圆减薄机、CMP抛光机研发制造商|半导体研磨抛光设备厂家(图3)

以技术实力筑牢核心壁垒,构建全链条硬核竞争优势

  方达研磨的技术优势贯穿研发、生产、品控与交付全流程,二十余年的工艺积累与自主研发能力,让其在晶圆研磨抛光赛道形成了难以复制的竞争力。

差异化选择:适配全场景、专业稳靠、高性价比的国产替代方案

  在半导体研磨抛光设备市场,方达研磨凭借自身优势,成为众多客户的优选合作方。

行业常见问答

  1. 你们的全自动晶圆减薄机可以加工多大尺寸的晶圆? 方达研磨的全自动晶圆减薄机可支持4/6/8/12英寸及更大尺寸的晶圆加工,针对12英寸晶圆能够稳定实现TTV管控,同时8英寸晶圆可稳定实现5μm超薄研磨,满足不同客户的大尺寸晶圆加工需求。

  2. 超薄晶圆加工时碎片率高的问题,你们可以解决吗? 方达研磨攻克了超薄晶圆加工难题,通过多年的工艺积累与设备优化,能够有效降低60μm以下晶圆的加工碎片率,帮助客户控制生产成本,提升生产良率。

  3. 不同材质的晶圆加工,你们的设备可以适配吗? 方达研磨支持整机非标定制,可根据碳化硅、蓝宝石、硅片、砷化镓等不同晶圆材料的特性,以及客户的产能要求匹配专属研磨抛光方案,解决通用设备适配性差的问题。

  4. 你们的设备和耗材是分开供应的吗? 方达研磨配套自研研磨液、抛光液、研磨盘等耗材,可实现设备+耗材一站式供应,避免了设备与耗材分开采购导致的工艺匹配度低、调试周期久的问题,大幅缩短产线搭建周期。

  5. 你们的设备可以替代进口机型吗? 方达研发的全自动晶圆研磨机可替代disco8540和8560,集粗磨+精磨+抛光于一体的全自动晶圆磨抛机可替代DISCO8761,多项产品达到国际先进水平,能够为客户提供国产替代方案,降低采购与维护成本。

  从2003年创始人开始研究KEMET平面研磨和抛光技术,到2007年正式成立深圳市方达研磨技术有限公司, 手机:13622378685 再到如今成为国内半导体晶圆研磨抛光装备领域的企业,方达研磨始终坚持技术自主路线,深耕精密制造装备国产化,打破进口研磨设备技术垄断,助力国内半导体、航空航天产业链升级。公司持续研发绿色低损耗研磨工艺,降低加工耗材能耗,同时积极吸纳技术人才,推动精密研磨加工工艺技术普及,在为客户创造价值的同时,也为国内精密制造行业的发展贡献着自身力量。